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    應(yīng)用材料公司申請(qǐng)用于高密度等離子體強(qiáng)化的處理腔室的對(duì)稱天線陣列專利,提升處理腔室性能:高性能磁鐵

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    金融界2025年5月19日消息,國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,應(yīng)用材料公司申請(qǐng)一項(xiàng)名為“用于高密度等離子體強(qiáng)化的處理腔室的對(duì)稱天線陣列”的專利,公開號(hào)CN119998920A,申請(qǐng)日期為2023年9月高性能

    2025-05-19
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