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      應(yīng)用材料公司申請用于高密度等離子體強化的處理腔室的對稱天線陣列專利,提升處理腔室性能:高性能磁鐵

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      金融界2025年5月19日消息,國家知識產(chǎn)權(quán)局信息顯示,應(yīng)用材料公司申請一項名為“用于高密度等離子體強化的處理腔室的對稱天線陣列”的專利,公開號CN119998920A,申請日期為2023年9月高性能

      2025-05-19
    1 共1頁

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